２０２６年通期業績予想は
２０２６年通期の純売上高見通しも４４０億～４５０億ユーロ（約７．７兆～７．８７兆円）に引き上げ、通期の粗利益率は約５６％を維持する見通し。
今回の決算では、業績の伸びに加え、同社が示した将来の需要見通しも注目される。クリストフ・フーケ社長兼最高経営責任者（CEO）は、AI関連投資の規模と継続期間を踏まえ、顧客が中短期の半導体製造装置の需要予測を相次いで引き上げていると説明。一部の顧客からは、２０２９年や２０３０年に納入される装置についても、早期に予約したいとの意向が示されているという。

今後の見通しは
こうした需要の拡大に対し、ASMLは供給能力の確保という課題に直面している。
フーケCEOは、現在の計画では２０２７年と２０２８年の供給能力が顧客の需要に追いつかないとの見通しを明らかにした。

同社の製品群の予想
同社は２０２８年に向けて、Low-NA EUVおよびDUV露光装置の生産能力を、従来公表していた３０％増の計画を上回る水準まで引き上げることを検討している。
EUV露光装置は、最先端の半導体回路を形成するために欠かせない装置であり、ASMLが高い技術的優位性を持つ。

一方、DUV露光装置も幅広い半導体製造工程で利用されている。両装置の生産能力を増強することは、AI向け半導体を含む世界的な半導体需要に対応するうえで重要となる。
また、同社は既存装置の性能を高めるアップグレード製品も提供し、顧客のウエハー生産能力の向上を支援している。

ASMLの成長戦略では、装置の出荷台数を増やすだけでなく、価格設定の見直しやサービス事業の拡大を通じて収益性を高めることも重要になっている。
EUV装置は顧客にとって巨額の設備投資を必要とする一方、ASMLにとっては高い技術的参入障壁が価格競争力を支える要因となる。

装置価格の引き上げに加え、保守やアップグレードなどの継続的な収益をどこまで拡大できるかが、今後の利益成長を左右する。ただし、今後の成長には不確実性も残る。

EUV装置の価格の高さは顧客の設備投資負担を増大させる要因となるほか、データセンター等AIインフラへの巨額投資が十分な収益につながるかどうかも重要な焦点となっている。
AI関連投資の回収が想定より遅れれば、半導体メーカーが設備投資計画を見直し、装置需要が減速する可能性もある。
また、ASML自身も、部品の調達や製造工程上の制約を克服しながら、生産能力を計画どおりに引き上げる必要がある。

今後の焦点は、
旺盛な需要を実際の装置出荷と収益の拡大につなげられるかどうか。２０２７～２０２８年に向けた増産計画、装置価格の引き上げ、サービス事業の拡大が成長を支える一方、AI投資の持続性や顧客の設備投資負担は引き続き重要なリスクとなる。
ASMLが供給能力をどこまで拡大し、高い収益性を維持できるかが、今後の成長を占う重要なポイントとなる。
以上、中国経済新聞等参照

ASML製品は半導体に焼き付ける露光装置で最重要装置だが、半導体製造ラインは多くの半導体製造装置で構成されており、前工程、本工程、後工程などに多くの半導体製造装置や機器・ほかの各種装置が必要となる。
そうした部分の装置に日本の半導体メーカーは強く、高いシェアを持つメーカーが多い。

ASMLの景気が良ければ、日本の半導体製造装置関連企業の業績も良好ということになる。ただ、こうした分野も韓国勢や中国勢の成長が目立ってきており、日本は、開発研究投資を積極化させ、製品を進化させ続けなければ淘汰されることになる。

半導体製造はトランプの米国主義により、台韓の半導体大手メーカーが米国生産を余儀なくされており、米国製は米国の高いコストにより生産され、パソコンやサーバー、データセンター向けなど高い設備投資が必要となる。景気が右肩上がりに上昇し続ければ問題ないだろうが、景気には波がある。データセンターの巨額投資の回収問題も生じている。

しばらくすれば、データセンターそのものがAIウイルスにより攻撃され、さらに高いセキュリティコストが必要となる。ますます投資回収が難しくなる。
すでにデータセンターのサーバーがウイルスにやられ、利用している顧客や顧客先が情報漏洩させている。AIは２７年間見つからなかったOＳのバグを見つける能力を有し、それも進化し続けている。数年すれば、生成AIは人から離れ自己増殖し、量子コンビュータで対応しなければ、打つ手は不可能に近い。