特に半導体、自動車、電子製品などは粉末状態の酸化イットリウムを部品の表面に噴射し、耐久性を高めている。

しかし、これまで国内で生産された酸化イットリウムは、日本のものより粒子が大きく、細かく緻密なコーティング膜を作るのが困難だという問題があった。
そのため、各企業は日本製の酸化イットリウム素材を全量輸入してきた。

セウォンハードフェイシングが核融合研のプラズマ技術を利用して開発した今回の素材は、粒子が日本より小さく、コーティング膜を均一にできるという特性を持っているという。

日本製の場合、粒子は３５マイクロメートルだが、国内開発の粒子は２０マイクロメートル。

核融合研のユ・ソクチェ所長は「プラズマ技術は、半導体工程の約８０％を占める核心技術の一つ」だとして、「国内企業の半導体設備および素材の国産化に向け、当研究所が保有するプラズマ技術の支援をより積極的に推進したい」と話しているという。
以上、
万歳万歳万々歳！よかったね。

高流動性溶射粉末及びその製造方法
溶射コーティング膜の品質を向上させるために、その流動特性が向上した、溶射ガンに投入される高流動性粉末、及びこれを利用したコーティング方法が開示される。
顆粒形態の溶射粉末、熱処理された溶射粉末、又はプラズマ表面処理された溶射粉末の表面に、有機単量体をコーティングすることで、溶射粉末の流動特性を大きく向上させることができる。
また、有機単量体でコーティング剤・・・。.
（上の文と内容は異なる）
公開日：2019/05/16
出願人： セウォンハードフェイシング
発明者： ムンフンス
公開番号：2019-512611号